材料可靠性識別（PMI）檢查有時需要測試高溫下的在用組件，例如管道，反應容器等。不僅環境條件對用戶和儀器都提出了挑戰，所測試的合金通常還含有痕量元素（例如Si，Mn，Cr，Cu）。

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這意味著用于合金檢驗的測試設備必須準確，快速，堅固，即使在這些惡劣條件下也能提供**性能。

手持式X射線熒光光譜儀（HHXRF）****的發展使我們能夠應對這些挑戰。

HITACHI HIGH-TECH獨特的可靠高溫樣品分析解決方案：全新 HERO™（耐熱）窗口膜

在測試高溫樣本時，用戶所要做的就是將正常的Prolene窗口膜換成HERO™窗口膜！ 這簡直太簡單了。 不需要特殊的墊片，防護罩或傾斜技術，這些技術可能對結果精度產生不利影響，特別是對于輕元素。

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樣品制備

為確保準確的檢測結果，應清潔被測部件的表面。為了去除油漆，腐蝕和污垢，建議使用配有鋯砂盤的角磨機。

高溫樣品帶來了額外的挑戰：它們的表面氧化非常迅速，因此建議快速測量部件表面。此外，高溫合金樣品的結構在冷卻時與同一合金的結構不同，因此如果測量相同的熱或冷合金，您可能會看到成分的差異。

測量程序

為了在高溫條件下獲得**可靠性，操作X-MET8000（配有HERO™窗口膜）非常重要，如圖1所示。

例如，如果測量200°C的樣品，則可以使用的**測量時間為20秒。如果測量20秒，則分析之間的最小冷卻時間為3分鐘；如果測量10秒鐘，冷卻時間減少到1.5分鐘（90秒）。

簡單來說，溫度越高，測量時間越短，冷卻時間越長。

性能

配備HERO™窗口膜的X-MET8000 Expert用于測試不同溫度下樣品的準確度和精度。在室溫（22℃）下分析一系列參考低合金鋼樣品，然后在爐中加熱并使用合金模式（LE FP分析，包括輕元素）在200，350和400℃下測試。

注意：在分析之前，樣品的表面沒有被研磨，以確保它們在測試前不會冷卻。然而，加熱樣品表面上的嚴重氧化對硅（Si）結果具有顯著影響，其氧化水平隨溫度而增加。

樣品在室溫和200℃下分析20秒，在350和400℃下分析15秒。二次分析之間將分析儀在室溫下放置6分鐘冷卻。

結果表明，即使在高溫下和短測量時間，也可以可靠地確定合金元素的含量。由于樣品表面的變化，Si測量結果會有所不同。這仍然是高溫樣品測試中的主要挑戰，因為氧化過程在非常高的溫度下快速進行。